BOE（京东方）开发的量子点直接光刻（DP-QLED）工艺，仅需求涂膜、曝光、显影三步即完成了一种量子点的图画化；相对于其它光刻图画化工艺，过程削减，无需引进附加结构，可有用提高功率、本钱可大起伏下降。该工艺无需运用贵重且制造周期长的精密金属掩模版（FMM），使用成熟度高的曝光光罩，量子点直接光刻（DP-QLED）即可在全尺度范畴范围内完成高度自在的尺度与像素密度的标准组合、高度自在的像素排布规划、更高的开口率和器材寿数、更简略的工艺制程及更灵敏、高效的产品研讨开发。